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超越半导体制程的极限:极紫外光微影(二集之二)

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今后几年晶片的应用会持续扩张,晶片的需求也会不断成长,而传统的193奈米微影技术已达到极限,必须以13.5奈米极紫外光技术替代。极紫外光微影是在半导体业历史上公认的最难做到完美的一项技术,其艰辛程度可比NASA的登月计画。
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